Японські інженери розробили транзистор з карбіду кремнію, здатний працювати при 600 °C та сумісний зі поширеною технологією іонної імплантації.
Японські інженери розробили транзистор з карбіду кремнію, здатний працювати при 600 °C та сумісний зі поширеною технологією іонної імплантації.